Increase the wafer temperature can greatly improve the ashing rate, thereby enhancing the capacity to dispensing equipment, reduce technology costs.

  • 提高晶圆反应温度可以大幅度提高灰化率,从而提高去胶设备的产能,降低工艺成本。

  • 互联网摘选 2025-01-20 12:31:45

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