Recent investigation shows that CeC & gt ; 2 nanoparticles can be used as CMP slurry to polish IC chip.

  • 最新研究表明,纳米 CeO _2可用于集成电路芯片加工的化学机械抛光(CMP)浆料.

  • 互联网摘选 2025-01-20 13:17:19

    • 相关例句
    精确
    • 模糊
    • 词首
    • 词尾
    • 词义
    • 例句