The required thickness ( 0.6-0.8 μ m) of SOS film is deposited by the standard OVD method on the thin silicon layer.

  • 3)再用通常CVD方法在带薄硅层上外延生长所需厚度(0.6~0.8μm)的SOS膜。

  • 互联网摘选 2025-01-20 17:39:46

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