SMIC 0.25 μ m 1 P 3 M CMOS process is applied in the design.

  • 本设计采用了中芯国际0.25μm1P3M的标准互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺.

  • 互联网摘选 2025-01-18 12:06:45

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