The fabrication method of ID photonic crystal includes anodization of p-and n-type silicon with various current densities under aquiferous HF solution of different concentration.

  • 而一维光子晶体的制备方法包括p型和n型单晶硅在不同电流密度下阳极氧化以形成折射率交替变化的多孔硅层,并采用了不同氢氟酸浓度的腐蚀液,以获得最佳的浓度配比。

  • 互联网摘选 2025-01-19 23:26:06

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