Drying process in IC production line, introducing spin rinsing? drying methods after semiconductor wafer cleaning. Also describing the technical principle, structure fea-tures and process applications for newly developed CXS series spin rinse?

  • 从IC生产线晶圆片旋转冲洗甩干工艺出发,介绍了半导体晶圆片清洗后的旋转冲洗甩干方法,以及新近开发研制的CXS系列旋转冲洗甩干机的技术原理、结构特点及工艺应用情况。

  • 互联网摘选 2025-02-26 22:08:32

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